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Whitepaper

PFAS-freie UV-Imprint-Lithografie für die Mikrolinsen-Herstellung

Präzision, Gleichmäßigkeit und Nachhaltigkeit in der optischen Großserienfertigung

Die UV-basierte Imprint-Lithografie ist eine hochauflösende, skalierbare Technik zur Replikation von Mikro- und Nanostrukturen, die sich besonders für die Optoelektronik wie Co-Packaged Optics (CPO) eignet. Herkömmliche weiche PDMS-Stempel weisen aufgrund von Quellung dimensionale Drift auf, was die Prozessstabilität für die Großserienfertigung einschränkt.

Entdecken Sie, wie ein neuer, nachhaltiger UV-Imprint-Prozess – der innovative DELO-Stempel- und Resist-Materialien mit fortschrittlicher SUSS-Ausrüstung kombiniert – eine schnelle, stabile und hochgradig gleichmäßige Mikrolinsen-Herstellung mit geringer TTV auf 300-mm-Wafern für die optische Großserienfertigung ermöglicht.

Was können Sie im Whitepaper erwarten?

  • Fortschrittliche SUSS MicroTec-Anlagenintegration einschließlich automatisierter Resist-Dosierung, Wedge-Error-Kompensation und interferometrischer Spaltregelung
  • PFAS-freie Materialtechnologie mit DELO PHOTOBOND VE 556992 und DELO KATIOBOND OM6611 für überlegene Prozessstabilität
  • Umfassende Gleichmäßigkeitsanalyse mit nachgewiesener Gesamtdickenvariation (TTV) unter 5 µm über mehrere 300-mm-Wafer
  • Materialvergleichsstudien mit Vorteilen gegenüber herkömmlichen weichen PDMS-Stempeln in der Dimensionsstabilität
  • Prozessoptimierungsergebnisse mit nachweislich minimaler Variation der Linsendimensionen und konsistentem Trennverhalten

Warum diese innovative Lösung?

  • Überlegene Langzeit-Prozessstabilität mit PFAS-freien, UV-härtbaren Stempelmaterialien, die dimensionale Drift eliminieren
  • Hochdurchsatz-Fertigung ermöglicht durch fortschrittliche Anlagenfeatures und reproduzierbare Imprint-Prozesse
  • Außergewöhnliche Gleichmäßigkeit kritisch für optische Leistung in Co-Packaged-Optics-Anwendungen
  • Nachhaltige Großserienfertigung positioniert diese Materialkombination als ideal für effiziente großmaßstäbliche Herstellung

Ihre Vorteile auf einen Blick

  • Hervorragende Gleichmäßigkeit: Gesamtdickenvariation (TTV) unter 5 µm erreicht über mehrere 300-mm-Wafer
  • Überlegene Prozessstabilität: PFAS-freie Materialien eliminieren dimensionale Drift und Quellprobleme herkömmlicher PDMS-Stempel
  • Hochauflösende Skalierbarkeit: Fortschrittliche Anlagenintegration ermöglicht reproduzierbare Imprints für Optoelektronik-Anwendungen
  • Konsistente Leistung: Minimale Variation der Linsendimensionen mit zuverlässigem Trennverhalten
  • Nachhaltige Fertigung: PFAS-freie Formulierungen unterstützen umweltverantwortliche Großserienfertigung

Lassen Sie sich von uns inspirieren!

Entdecken Sie, wie diese gemeinschaftliche Entwicklung zwischen SUSS und DELO neue Maßstäbe für nachhaltige, präzise und effiziente Mikrolinsen-Herstellung setzt und diese Materialkombination als starken Kandidaten für die Co-Packaged-Optics-Fertigung positioniert.

Jetzt Whitepaper herunterladen und mehr erfahren!

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